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LCD產業相關 > TFT 前工程相關設備

產品聯絡人／林雅文
產品名稱：TFT 前工程相關設備

詳細說明：
在LCD製程中，須要各種的洗淨設備，如初期入料洗淨、成膜前洗淨、光阻前洗淨、配向洗淨、完工洗淨等至少20次以上的洗淨工程。其目的為將玻璃基板上之雜質以清洗劑洗淨，這些洗淨工程對於之後的製程良率影響極大。
蝕刻設備的功用在於將未被覆光阻部份之ITO導電膜去除，留下有被覆光阻圖案之ITO導電膜，在TFT-LCD的蝕刻設備可以分成濕式蝕刻與乾式蝕刻兩種。
去光阻設備乃將蝕刻後基板所留下之電極圖案上的光阻劑去除。去光阻的方法，包括利用藥液的濕式剝離法，以及用氧系電漿將光阻氧化、分離並加以去除的灰化法為乾式剝離。
用途：
洗淨設備 : 將玻璃基板上之雜質以清洗劑洗淨.
蝕刻設備 : 將未被覆光阻部份之ITO導電膜去除，留下有被覆光阻圖案之ITO導電膜.　
去光阻設備:將蝕刻後基板所留下之電極圖案上的光阻劑去除.
規格：
可依客戶需求